集成电路立案细节

集成电路立案细节

集成电路立案必须知道通过国际公约和美日等国对布图设计的立法内容对比来看,没有太多的差别,可以看出,世界上各个国家在关于布图设计保护的立法是现有知识产权保护立法中分歧最小的一个领域,因为美国是国际上集成电路产业的发源国,其率先、创造性的颁布《半导体芯片保护洼》来保护布图设计,开创了国际上知识产权保护布图设计的先河,其立法意义非常重大,随后《华盛顿条约》也是大篇幅的借鉴美国的<+导体芯片保护法》,我国条例主要借鉴了《华盛顿条约》,因此,我国条例和美国的立法有很多类似之处。例如对于布图设计要求其具有“独创性”和必须登记才能受到保护;布图设计的专有权包括复制权和商业利用权:对布图设计侵权的抗辩包括台理使用、反向工程和善意侵权等。 R2O深圳律师-深圳律师事务所-展现深圳律师的网络平台-深律网

虽然我国集成电路立案略晚于美国,但集成电路产业在我国的发展仍然非常之快,据数据显示,我国集成电路行业抓住市场契机,在国家加快推动集成电路产业发展相关政策的支持下,每年完成销售产值已超过两干亿元,较往年有巨大飞跃。高额的利润和法律上的空白致使集成电路侵权行为一度盛行,我国为了集成电路产业提供一个安全的发展环境,在2001年颁布了《集成电路布图设计保护条例》,该条例弥补了我国在布图设计专门法律保护上的空白,中国在当时加入世贸组织,履行了TRJPS协议中的义务,条例的制定促进了中国知识产权的国际化发展,其中内容与TRIPS协议中的内容大体相同,既考虑到中国集成电路产业的发展的相对滞后性,也适应了中国的国情,从概念的制定、权利的取得条件、权利的限制等等都体现了世界上最先进的规定。 R2O深圳律师-深圳律师事务所-展现深圳律师的网络平台-深律网

2015-12-22 10:46:34 浏览:

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